High-NA EUV 분석 모음

High-NA EUV가 D램 원가를 낮추는 조건, 장비 가격보다 노광 처리량과 대체되는 공정 수가 결정한다

가장 유력한 결론은 High-NA EUV가 2027년 이후 D램 일부 핵심 층에서 다중 패터닝을 대체하며 단계적으로 들어오지만, 장비 자본비용이 기존 EUV의 약 2.6~3.4배인 설명용 시나리오(장비 가격 2배·가동률·수명 동일 가정 시 편집자 추정)에서는 원가 절감보다 미세화 일정 확보 수단에 가깝다는 것이다.