ASML · High-NA EUV

ASML은 네덜란드 회사이고, EUV 노광 장비를 만드는 세상의 유일한 회사다.

이 문장 하나가 반도체 산업의 여러 사실을 설명한다. 장비가 한 곳에서만 나오니 줄을 서야 하고, 한 대 값이 수천억 원이라 설비투자 계획이 곧 장비 발주 계획이 되며, 수출을 막으면 미세화가 멈춘다.

High-NA — 다음 단계

기존 EUV의 개구수(NA)는 0.33이다. High-NA는 이걸 0.55로 키운다. 렌즈가 빛을 더 넓은 각도로 모으면 더 작은 것을 그릴 수 있다.

SK하이닉스가 2025년 9월 2일 ASML의 High-NA EUV 장비 EXE:5200B를 업계 최초로 상용 도입했다고 발표했다. 장소는 이천 M16이다.

제재의 지렛대가 여기 있다

CXMT가 DRAM에서 어려움을 겪는 이유와 YMTC가 낸드에서 계속 증설할 수 있는 이유가 갈리는 지점이 EUV다.

• DRAM은 미세화 경쟁이다. 셀을 더 작게 만들어야 웨이퍼 한 장에서 더 많은 비트가 나온다. 여기서 EUV가 막히면 바로 벽에 부딪힌다.
• 낸드는 쌓는 경쟁이다. 위로 올리는 것이라 EUV가 없어도 갈 길이 있다.

그래서 중국 제재를 이야기할 때 DRAM과 낸드를 한 칸에 넣으면 안 된다.

확인 못 한 것

• High-NA 장비의 대당 가격·인도 대수 — ASML은 고객별 인도 내역을 공개하지 않는다.
• 삼성·마이크론의 High-NA 도입 시점 — 공식 발표를 확인하지 못했다.

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