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TSV와 하이브리드 본딩의 차이

비교 마지막 확인 2026-08-11

한 줄로: TSV는 다이를 수직으로 뚫어 층과 층을 잇는 전극이고, 하이브리드 본딩은 범프 없이 구리 패드끼리 맞붙이는 접합이다. 서로 대체하는 기술이 아니다.

TSV하이브리드 본딩
무엇다이를 관통하는 수직 전극다이와 다이를 붙이는 접합 방식
대체하는 것와이어 본딩(칩 옆으로 도는 금선)범프 + 기존 접합(TC-NCF·MR-MUF 계열)
규모SK하이닉스 HBM3 기준 스택당 8,000개 초과, 12단이면 10만 개 넘는 홀
HBM 양산 적용이미 필수 — HBM이 존재하는 기반아직 아무도 발표 안 함 (2026-08 기준)

HBM의 1,024·2,048비트짜리 넓은 통로가 가능한 이유가 TSV다 — 와이어로는 그 수의 연결을 만들 수 없다. 하이브리드 본딩은 그 다음 문제, 즉 층 사이를 어떻게 붙이고 열을 어떻게 빼내는가의 후보다.

하이브리드 본딩의 현재 위치

범프가 사라지면 층 간 거리가 줄고(같은 두께에 더 쌓는다) 열이 빠져나갈 길이 좋아진다. 16단 이상 HBM에서 이 둘이 동시에 병목이라 후보로 거론된다.

다만 2026년 8월 기준 세 회사 중 HBM 양산에 하이브리드 본딩을 적용했다고 발표한 곳은 없다. SK하이닉스는 16단 HBM3E 발표(2024-11)에서 "양산 검증된 Advanced MR-MUF를 적용했고, 하이브리드 본딩은 백업 공정으로 개발 중"이라고 밝혔다. 삼성은 GTC 2026-03에서 HCB(Hybrid Copper Bonding)가 16단 이상에서 TCB 대비 열저항을 20% 이상 낮출 수 있다고 소개했다 — 소개이지 양산 발표가 아니다.

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이 글의 숫자는 공개 API 실측값이거나 회사가 직접 낸 발표문에서 가져온 것입니다. 지수와 점수는 제가 만든 계산의 결과이지 사실이 아니며, 계산식은 검증 페이지에 전부 공개돼 있습니다. 투자 자문이 아니고 매매 권유도 아닙니다.